多腔體真空濺鍍與乾蝕刻系統

中央研究院「多腔體真空濺鍍與乾蝕刻系統」公開招標更正公告：預算 4488 萬，截止投標 2024/12/04，公告日 2024/11/28，案號 113000752。

公告類型

公開招標更正公告

採購機關

中央研究院

標案案號

113000752

標的分類

財物類449-其他特殊用途之機具及其零件

招標方式

公開招標

決標方式

最低標

預算金額

44,880,000 元

公告日期

2024/11/28

截止投標

2024/12/04

開標時間

2024/12/05 14:00

履約地點

臺南市(非原住民地區)

政府電子採購網原始公告