超高真空金屬與氧化物薄膜濺鍍系統暨高準直性乾式蝕刻系統一套

中央研究院「超高真空金屬與氧化物薄膜濺鍍系統暨高準直性乾式蝕刻系統一套」公開招標更正公告：預算 3.14 億，截止投標 2024/01/24，公告日 2024/01/19，案號 112002763。

公告類型

公開招標更正公告

採購機關

中央研究院

標案案號

112002763

標的分類

財物類449-其他特殊用途之機具及其零件

招標方式

公開招標

決標方式

最低標

預算金額

314,280,000 元

公告日期

2024/01/19

截止投標

2024/01/24

開標時間

2024/01/25 14:00

履約地點

臺南市(非原住民地區)

政府電子採購網原始公告