大面積高真空鍍膜設備

中央研究院「大面積高真空鍍膜設備」決標公告：得標廠商 高敦科技股份有限公司，決標金額 1350 萬，公告日 2024/09/18，案號 113000331。

公告類型

決標公告

採購機關

中央研究院

標案案號

113000331

標的分類

財物類449-其他特殊用途之機具及其零件

招標方式

公開招標

決標方式

最低標

預算金額

14,500,000 元

公告日期

2024/09/18

履約地點

臺南市(非原住民地區)

決標結果

已決標

得標廠商

高敦科技股份有限公司

決標金額

13,500,000 元

底價金額

13,500,000 元

投標廠商家數

1 家

政府電子採購網原始公告